X光射線管是一種能夠產生X光的裝置。XRF螢光光譜儀，便是利用X射線較強的穿透能力，照射到待測物的表面，將其激發出螢光，來檢測待測物的內含元素種類。
X光射線管，是XRF儀器中不可或缺的主要組件，也是主要的耗材。若您打算為您的實驗購置一部XRF螢光光譜儀，您必須要認識一下X光射線管。
X射線管，根據他的結構組成，可以從靶材、發射功率、電壓、機構、聚焦程度這幾個要點來選擇合乎實驗需要的 X光管，來搭配XRF儀器。
X射線管常用的靶材包括鎢、鉬、鉻、銀、銠等。不同靶材產生的X射線能量範圍各異，因此適用於分析不同類型的元素。例如：
X射線管的功率範圍通常在10瓦特到4000瓦特之間。功率越大，產生的X射線強度越高，穿透能力越強。這使得高功率X射線管適用於需要深度穿透的應用，如：
X射線管的電壓範圍通常在30千伏到100千伏之間。電壓越高，產生的X射線能量越高，適用於不同深度和密度材料的分析。具體應用包括：
X射線管的結構主要有側窗式、端窗式和靶材穿透式等。不同結構的X射線管適用於不同的應用場合：
X射線管可提供不同大小的焦點，以滿足不同的應用需求：
通過了解X射線管的不同類型及其特性，使用者可以根據具體應用需求選擇最適合的X射線管，以達到最佳分析效果。