TXRF全反射Ｘ射線螢光光譜儀簡介

全反射X射線螢光光譜儀 (Total Reflection X-Ray Fluorescence, TXRF) 是基於 EDXRF 的一種光譜偵測技術。相較於 EDXRF，TXRF 主要的不同之處，是X光束照射樣品的角度。EDXRF 的X光束，是以45°角照射樣品，而 TXRF 則是以幾個毫弧度(mrad) 的掠射角 (grazing angle) 照射樣品。

由於這種幾乎與樣品表面平行的X光掠射，讓X光束被完全反射，可避免基材的吸收X光，並大幅降低散射程度，因而降低背景雜訊。此外，TXRF 只需要一小滴溶解於溶劑中的樣品 (5-100µL)，便可以進行量測。被滴在有機玻璃基板上的樣品，待溶劑揮發後，只殘留幾奈米厚的樣品在基板上。

TXRF 與傳統 EDXRF 的差異

由於在微量的殘餘溶劑或樣品薄膜上，不易因為散射 (瑞利散射或康普敦散射)造成基質效應。因此在TXRF的測量中，樣品或基質所產生的散射，能夠大幅度地被消除。

基於以上的特性，TXRF 全反射式光譜儀，特別適合微量元素的測定。加上 TXRF 具有經濟、相對簡單的樣品前處理、同步偵測原子序高於11的元素、ppb等級的偵測極限，目前 TXRF 已經被廣泛地應用於環境相關研究，如植物，土壤，空氣，水質。TXRF 全反射式光譜儀，也是一種對固體、液體、粉末、合金材質，進行非破壞性檢測的高效率儀器。

綜合以上特性，可歸納 TXRF 的優點如下：

• 無基質效應
• 只需要單一個內部標準品進行定量分析
• 任何基質都不影響定量操作
• 可同步進行多元素的痕量分析
• 適合多種樣品材質、形式
• 所需的樣品量很小 (最多五毫升)
• 對固體與液體的微分析應用
• 從納元素到鈽元素都有極佳的偵測極限 (ppb或pg等級)
• 極佳的動態範圍，從 ppt 一直到 %
• 無記憶效應
• 非破壞性檢測
• 營運成本低