TXRF全反射X射线萤光光谱仪简介

发布于 2016-03-24 18:27

全反射X射线萤光光谱仪 (Total Reflection X-Ray Fluorescence, TXRF) 是基于 EDXRF 的一种光谱侦测技术。相较于 EDXRF,TXRF 主要的不同之处,是X光束照射样品的角度。EDXRF 的X光束,是以45°角照射样品,而 TXRF 则是以几个毫弧度(mrad) 的掠射角 (grazing angle) 照射样品。

由于这种几乎与样品表面平行的X光掠射,让X光束被完全反射,可避免基材的吸收X光,并大幅降低散射程度,因而降低背景杂讯。此外,TXRF 只需要一小滴溶解于溶剂中的样品 (5-100μL),便可以进行量测。被滴在有机玻璃基板上的样品,待溶剂挥发后,只残留几奈米厚的样品在基板上。

TXRF & Conventional EDXRF

TXRF 与传统 EDXRF 的差异

由于在微量的残余溶剂或样品薄膜上,不易因为散射 (瑞利散射或康普敦散射)造成基质效应。因此在TXRF的测量中,样品或基质所产生的散射,能够大幅度地被消除。

基于以上的特性,TXRF 全反射式光谱仪,特别适合微量元素的测定。加上 TXRF 具有经济、相对简单的样品前处理、同步侦测原子序高于11的元素、ppb等级的侦测极限,目前 TXRF 已经被广泛地应用于环境相关研究,如植物,土壤,空气,水质。TXRF 全反射式光谱仪,也是一种对固体、液体、粉末、合金材质,进行非破坏性检测的高效率仪器。

综合以上特性,可归纳 TXRF 的优点如下: