TXRF全反射X射線螢光光譜儀簡介
發佈:2016-03-24, 週四
全反射X射線螢光光譜儀 (Total Reflection X-Ray Fluorescence, TXRF) 是基於 EDXRF 的一種光譜偵測技術。相較於 EDXRF,TXRF 主要的不同之處,是X光束照射樣品的角度。EDXRF 的X光束,是以45°角照射樣品,而 TXRF 則是以幾個毫弧度(mrad) 的掠射角 (grazing angle) 照射樣品。
由於這種幾乎與樣品表面平行的X光掠射,讓X光束被完全反射,可避免基材的吸收X光,並大幅降低散射程度,因而降低背景雜訊。此外,TXRF 只需要一小滴溶解於溶劑中的樣品 (5-100µL),便可以進行量測。被滴在有機玻璃基板上的樣品,待溶劑揮發後,只殘留幾奈米厚的樣品在基板上。
TXRF 與傳統 EDXRF 的差異
由於在微量的殘餘溶劑或樣品薄膜上,不易因為散射 (瑞利散射或康普敦散射)造成基質效應。因此在TXRF的測量中,樣品或基質所產生的散射,能夠大幅度地被消除。
基於以上的特性,TXRF 全反射式光譜儀,特別適合微量元素的測定。加上 TXRF 具有經濟、相對簡單的樣品前處理、同步偵測原子序高於11的元素、ppb等級的偵測極限,目前 TXRF 已經被廣泛地應用於環境相關研究,如植物,土壤,空氣,水質。TXRF 全反射式光譜儀,也是一種對固體、液體、粉末、合金材質,進行非破壞性檢測的高效率儀器。
綜合以上特性,可歸納 TXRF 的優點如下:
- 無基質效應
- 只需要單一個內部標準品進行定量分析
- 任何基質都不影響定量操作
- 可同步進行多元素的痕量分析
- 適合多種樣品材質、形式
- 所需的樣品量很小 (最多五毫升)
- 對固體與液體的微分析應用
- 從納元素到鈽元素都有極佳的偵測極限 (ppb或pg等級)
- 極佳的動態範圍,從 ppt 一直到 %
- 無記憶效應
- 非破壞性檢測
- 營運成本低