白光反射光譜法簡介

發佈:2020-12-02, 週三

白光反射光譜法(White Light Reflectance Spectroscopy, WLRS)是一種觀測寬帶光束 (可見光,可見光/近紅外光),在塗佈待測物的基板 (Substrate) 表面反射後,因不同深度造成相位差,而產生的光譜干涉條紋。與典型反射干涉光譜法 (Reflectometric Interference Spectroscopy, RIfS) 的差異在於,WLRS 底部是用矽基板 (Si Substrate),而不是透明基板,成本較傳統方式也更低。

基於上述理由,白光反射光譜法 WLRS 更適合當今主流的微電子處理 (Microelectronic Processes)相關應用,用來測量表面塗層、沈積層薄膜的厚度。如,微流體生物晶片,半導體、光電產業的相關製程的膜厚測量應用。而且,WLRS方法,可以在無須移動光學組件的狀況下,進行多層、多樣品的即時分析。更重要的是,測量的條件,不會因此增加儀器的複雜性與設置成本。

光線穿透多層材料反射後造成干涉現象
光線穿透多層材料反射後造成干涉現象

白光反射光譜膜厚儀

白光反射光譜儀,主要是由反射探頭、光纖、燈源、光譜儀所組成。反射探頭中心是一束光纖,光纖的外圍有六根光纖,導入燈源的照明光線,將光線傳遞到待測物表面,反射的光線,則由被這六根直徑相同的光纖所包圍的中央光纖,傳送到光譜儀,對矽基板上的薄膜、沈積層進行膜厚測量。

白光反射光譜膜厚儀
白光反射光譜膜厚儀

光線穿透單層或多層具有不同折射率的半透明薄膜、沈積層之後,到達具有中等反射率的矽基板。然後被矽基板反射之後,被中央的光纖蒐集。而在不同波長帶有干涉條紋的光譜,被光譜儀吸收測量。

WLRS 原理

光譜儀測得干涉條紋的數量和形狀,取決於半透明薄膜的厚度和折射率,根據這些材料的特有特性,實測材料不同厚度的反射光譜,並透過擬合演算法(比如,萊文貝格-馬夸特、人工智慧演算法),跟反射方程式擬合。之後只需要將測量結果套用方程式,就可以非常快速準確測得鍍層、沈積層的厚度,讓白光反射光譜儀得以應用在即時監控的實驗,或者生產線的監控用途。比如,監控生物功能換能感測器上的生物反應,或半導體、光電材料製程的即時監控。

 

雙層薄膜的反射方程式
雙層薄膜的反射方程式

雙層薄膜白光反射方程式 – 在空氣與基板間,有兩層薄膜。總能量為 E。

ni 為第i層的折射率 (0 空氣;1 上層薄膜;2 下層薄膜;3 矽基板),di為厚度,λ為波長。

應用

  • 矽晶圓厚度測試
  • 太陽能板多層膜厚測量
  • 微機電矽薄膜測量
  • 基板折射率測量
  • 藝術品古文物表面半透明樹脂塗層
  • 平面映射掃描圖
  • 揮發性有機化合物VOC感測器
  • 揮發性有機化合物會與一些高分子聚合物產生溶脹(swell)反應,如,聚甲基丙烯酸羥乙酯(PHEMA)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),還包括聚甲基丙烯酸異丁酯(PIBMA)。透過偵測這些半透明聚合物的膜厚變化,便可測得VOC的濃度。
  • 生物感測晶片上的生物反應監測
    感測晶片的原理,是基於化學活化、生物功能化、生物分子結合反應的原理,讓矽基板上的二氧化矽鍍層被三乙氧基矽烷(APTES)進行化學活化,使其具有物理吸附能力,以吸附 γ-globulins 免疫球蛋白。利用 WLRS即時監控蛋白質層的厚度。