白光反射光譜法簡介
白光反射光譜法（White Light Reflectance Spectroscopy, WLRS）是一種觀測寬帶光束 (可見光，可見光/近紅外光)，在塗佈待測物的基板 (Substrate) 表面反射後，因不同深度造成相位差，而產生的光譜干涉條紋。與典型反射干涉光譜法 (Reflectometric Interference Spectroscopy, RIfS) 的差異在於，WLRS 底部是用矽基板 (Si Substrate)，而不是透明基板，成本較傳統方式也更低。
基於上述理由，白光反射光譜法 WLRS 更適合當今主流的微電子處理 (Microelectronic Processes)相關應用，用來測量表面塗層、沈積層薄膜的厚度。如，微流體生物晶片，半導體、光電產業的相關製程的膜厚測量應用。而且，WLRS方法，可以在無須移動光學組件的狀況下，進行多層、多樣品的即時分析。更重要的是，測量的條件，不會因此增加儀器的複雜性與設置成本。
流體吸附分析儀在二氧化碳吸附研究領域的解決方案
碳捕獲與封存 (CCS, Carbon Capture and Storage) 是近年來熱門的研究項目。由於石化燃料在發電與工業製程的大量使用，造成大量二氧化碳排放至大氣中，嚴重影響氣候的穩定，每年造成鉅額經濟損失。隨著相關限制溫室氣體排放法規的制定與執行，關於碳收集與儲存的研究成為當今的顯學。
勢動科技為您引進世界最先進的吸附分析技術，無論在量熱、高壓吸附（PCT, 體積法）、貫穿曲線（BTC 吸附分析）、變壓交替吸附（PSA 吸附分析），或是其他熱分析方法上，幫助您完成重要的研究、實驗、以及新產品開發。
HWS過程中，ARC能看到些什麼？
甚麼是 HWS？
HWS是(Heat Wait Seek)的縮寫，也就是加熱、等待、追蹤過熱三個過程。ARC 電池可靠性加速失控量熱儀，透過重複的 HWS 循環，逐次搜尋電池是否開始發生不正常反應。當不正常的能量反應，被量熱儀偵測到時，ARC會並自動進入過熱量測模式。在過熱模式啟動之後，ARC會馬上將樣品槽變成一個理想的絕熱系統，此時，不再有外部能量進入系統，ARC會一直將絕熱系統維持到過熱失控反應結束。
熱電材料特性研究與相關應用
塞貝克效應 (亦稱席貝克效應) 是不同的材質，在接面處將熱能直接轉換為電能的特性。它被德國的物理學家托馬斯‧約翰‧塞貝克 (Thomas Johann Seebeck) 於1821年所命名，Seebeck發現兩種金屬合成的指南針，在溫度變化下，會產生磁場的變化，因此發現了熱磁效應。之後為丹麥的物理學家漢斯 (Hans Christian Ørsted)，正名為「熱電效應」。
如今，商業化的熱電分析儀也出現在市場，提供使用者一個可靠的分析研究工具，如法國 SETARAM 公司的 SeebeckPro 熱電分析儀。