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如何利用粒徑分析儀設計牙膏配方?

列印
發佈:2024-01-16, 週二
Particle Size Analyzer in Toothpaste Design

市售牙膏除了內含氟化物之類的防蛀齒成份之外,通常還會添加研磨劑,用來去除牙齒表面的汙漬、破壞牙菌斑的生物膜,以消除牙菌斑,同時也起到拋光牙齒表面的功效。牙膏中最常添加的研磨劑是氧化鋁和二氧化矽顆粒,研磨顆粒的尺寸通常在 5μm – 40μm 之間。隨著功能性牙膏的推陳出新,牙膏廠商開始往精緻化的方向研發新品,生產過程對研磨顆粒的粒徑控制,也更為重視。

舉例來說,敏感性牙齒,常見於琺瑯質受損的患者,由於孔洞穿過牙本質抵達牙髓神經,一旦受到外部刺激,比方說喝一口冰水,就會刺激神經,發生短暫且尖銳的疼痛感。牙膏廠商所設計的抗敏感牙膏,通常以脫敏劑熔融二氧化矽的組合物製程,同時控制粒徑到<10μm 的微小程度,便能將顆粒穿過孔洞抵達神經,同時也可以將孔洞堵塞封閉。 

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界達電位Zeta Potential原理?爲什麼重要?

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發佈:2021-07-20, 週二
CMP Process in Semiconductor Zeta Potential

界達電位原理

界達電位(Zeta Potential)是用來描述奈米級膠體微粒,在其滑動面 (Slipping Plane) 上的電位,通常以毫伏特 (mV) 為單位表示。由於膠體微粒的滑動面,是微粒跟溶液分開的交界,測量界達電位的高低,可以得知微粒滑動面離微粒表面的距離,這個距離構成電雙層(Electric Double Layer)的厚度,也就是微粒到溶液正負兩層離子交界面的厚度,進而得知膠體溶液的特性與穩定性。

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流體吸附分析儀在二氧化碳吸附研究領域的解決方案

列印
發佈:2015-08-31, 週一
CO2 Sequestration

碳捕獲與封存 (CCS, Carbon Capture and Storage) 是近年來熱門的研究項目。由於石化燃料在發電與工業製程的大量使用,造成大量二氧化碳排放至大氣中,嚴重影響氣候的穩定,每年造成鉅額經濟損失。隨著相關限制溫室氣體排放法規的制定與執行,關於碳收集與儲存的研究成為當今的顯學。

勢動科技為您引進世界最先進的吸附分析技術,無論在量熱、高壓吸附(PCT, 體積法)、貫穿曲線(BTC 吸附分析)、變壓交替吸附(PSA 吸附分析),或是其他熱分析方法上,幫助您完成重要的研究、實驗、以及新產品開發。

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白光反射光譜法簡介

列印
發佈:2020-12-02, 週三
Waveform of Multilayer Reflection

白光反射光譜法(White Light Reflectance Spectroscopy, WLRS)是一種觀測寬帶光束 (可見光,可見光/近紅外光),在塗佈待測物的基板 (Substrate) 表面反射後,因不同深度造成相位差,而產生的光譜干涉條紋。與典型反射干涉光譜法 (Reflectometric Interference Spectroscopy, RIfS) 的差異在於,WLRS 底部是用矽基板 (Si Substrate),而不是透明基板,成本較傳統方式也更低。

基於上述理由,白光反射光譜法 WLRS 更適合當今主流的微電子處理 (Microelectronic Processes)相關應用,用來測量表面塗層、沈積層薄膜的厚度。如,微流體生物晶片,半導體、光電產業的相關製程的膜厚測量應用。而且,WLRS方法,可以在無須移動光學組件的狀況下,進行多層、多樣品的即時分析。更重要的是,測量的條件,不會因此增加儀器的複雜性與設置成本。

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